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本发明公开了一种MEMS器件的制造方法及MEMS器件，涉及微电子机械系统技术领域，用于在制造具有悬空结构的MEMS器件时提高刻蚀图形的尺寸精度，提升MEMS器件的品质。所述MEMS器件的制造方法包括：提供一基底，基底上形成有第一牺牲层；去除...
该专利属于地球山(北京)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过地球山(北京)科技有限公司授权不得商用。

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