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本发明提供一种用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：壳体，在所述壳体中具有处理空间；支承单元，其在所述壳体中支承所述基板；液体分配单元，其将液体分配到支承在所述支承单元上的所述基板上；激光照射单元，其将激光照射到所述基板的边...
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