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本实用新型以聚氧硅为基片，选用锗，硒化锌，硫化锌为镀膜材料，采用真空中蒸镀多层干涉膜，膜系设计采用双面反射堆叠加而成，具有通带区域透射率高，波纹小，成品率高的特点，生产外径为７６毫米和１０１毫米的厚度为１毫米，０．５毫米等不同规格高稳定性的...
该专利属于中国科学院上海技术物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海技术物理研究所授权不得商用。

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