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本发明提供一种深沟槽功率器件及其制备方法,包括:位于半导体基板上的外延层;位于元胞区的阱区内的多个沟槽栅,各沟槽栅间隔排布,各沟槽栅之间设置有源区;位于沟槽栅上层的源极电极及栅极电极,源极电极包括依次由下至上叠置的第一导电多晶硅层,第一金属...该专利属于华润微电子(重庆)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华润微电子(重庆)有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种深沟槽功率器件及其制备方法,包括:位于半导体基板上的外延层;位于元胞区的阱区内的多个沟槽栅,各沟槽栅间隔排布,各沟槽栅之间设置有源区;位于沟槽栅上层的源极电极及栅极电极,源极电极包括依次由下至上叠置的第一导电多晶硅层,第一金属...