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高电子迁移率晶体管和调整二维电子气体电子密度的方法技术
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文档序号:26847999
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本发明公开一种高电子迁移率晶体管和调整二维电子气体电子密度的方法,其中高电子迁移率晶体管包含一氮化镓层,一氮化铝镓层设置于氮化镓层上,氮化铝镓层具有一伸张应力,一源极电极以及一漏极电极设置于氮化铝镓层之上,一栅极电极设置于源极电极与漏极电极...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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