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本申请涉及一种超导薄膜制备方法及超导薄膜,包括:提供基底;去除所述基底上表面的杂质并形成平滑上表面;采用分子束外延生长技术于所述平滑上表面上生长镧系金属单晶层,使得所述平滑上表面与所述镧系金属单晶层之间生成一原子级平整的界面。本申请提供了一...该专利属于埃特曼(深圳)半导体技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过埃特曼(深圳)半导体技术有限公司授权不得商用。
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本申请涉及一种超导薄膜制备方法及超导薄膜,包括:提供基底;去除所述基底上表面的杂质并形成平滑上表面;采用分子束外延生长技术于所述平滑上表面上生长镧系金属单晶层,使得所述平滑上表面与所述镧系金属单晶层之间生成一原子级平整的界面。本申请提供了一...