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本发明适用于磁控溅射技术领域，提供了一种多源磁控溅射沉积系统，用于解决现有设备生产效率低，溅射气氛单一，难以保证产品质量的问题。该系统包括：溅射舱以及位于所述溅射舱内部的基板平台、靶材以及自动收放卷结构；所述的基板平台内部存在一个加热源；在...
该专利属于桂林电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过桂林电子科技大学授权不得商用。

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