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本发明公开了一种高压离子轰击的真空镀膜装置及其镀膜方法，包括底座，所述底座的上表面固定连接有主壳体，所述第一接轴和第二接轴的外表面分别焊接有第一连接杆和第二连接杆，所述第一连接杆的外表面焊接有右旋转壳体，所述第二连接杆的外表面焊接有左旋转壳...
该专利属于张益明所有，仅供学习研究参考，未经过张益明授权不得商用。

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