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本发明涉及一种真空断路器用触头及其制备方法，真空断路器、真空断路器触头用合金镀层材料。该真空断路器用触头包括触头基底以及通过磁控溅射镀覆在触头基底上的表面镀层，所述表面镀层由以下质量百分比的组分组成：Cr 18‑25％，Mo 5‑10％，T...该专利属于平高集团有限公司;国家电网有限公司;国网辽宁省电力有限公司电力科学研究院;西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过平高集团有限公司;国家电网有限公司;国网辽宁省电力有限公司电力科学研究院;西安交通大学授权不得商用。