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本发明涉及一种利用化学气相沉积法（ＣＶＤ）制备大容量低费用光纤预制件的方法。更具体地说，所述的这种制备光纤预制件（３）的方法包括制备二氧化硅沉积管（２２）的步骤，其中掺杂了可得到低于１００ｐｐｂＯＨ基浓度的足够量的氯并且掺杂了与足够量氯的剂...
该专利属于阿尔卡塔尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿尔卡塔尔公司授权不得商用。

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