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本实用新型为掩膜托架，在通过向上沉积方式进行制膜时能防止半导体衬底中在应被掩膜托架遮挡的区域形成不希望的制膜。用于太阳能电池单元的制造工序中，太阳能电池单元具有矩形的半导体衬底、透明导电层和多个集电电极，透明导电层在半导体衬底中的至少一侧的...
该专利属于株式会社钟化所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社钟化授权不得商用。

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