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本发明提供一种配备有通过在将边缘区域分为第1区域以及位于上述第1区域外廓的第2区域并将第2区域分成多个小区域而向基板上供应工程气体的用于氧化膜蚀刻的工程气体供应装置以及配备上述装置的基板处理系统。上述工程气体供应装置，包括：喷淋头，安装在用...
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