温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统，其中，等离子体处理设备包括：基片处理腔；气体供应单元，用于向基片处理腔内输送反应气体；位于基片处理腔内的基座，基座用于承载待处理基片；位于基片处理腔上的第一壳体，第一壳体具有气...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。