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本实用新型涉及半导体领域,公开一种气帘结构及晶圆移送装置,包括:环形框架、进气组件、排气组件和控制箱;环形框架内侧环绕设置有多个与进气组件连通的喷嘴组,用于向穿过环形框架的工件喷射气体;环形框架内侧环绕设置有凹槽,凹槽内设置有多个与排气组件...该专利属于合肥欣奕华智能机器有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥欣奕华智能机器有限公司授权不得商用。
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本实用新型涉及半导体领域,公开一种气帘结构及晶圆移送装置,包括:环形框架、进气组件、排气组件和控制箱;环形框架内侧环绕设置有多个与进气组件连通的喷嘴组,用于向穿过环形框架的工件喷射气体;环形框架内侧环绕设置有凹槽,凹槽内设置有多个与排气组件...