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苏州晶湛半导体有限公司
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文档序号:26767069
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本实用新型提供了一种半导体结构,半导体结构中,异质结上依次形成有P型离子掺杂层与绝缘层,P型离子掺杂层包括激活区与非激活区,激活区位于栅极区域,激活区中的P型掺杂离子被激活,非激活区位于非栅极区域;绝缘层具有暴露激活区的开口;激活区上,和/...
该专利属于苏州晶湛半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州晶湛半导体有限公司授权不得商用。
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