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一种新型横向双扩散碳化硅场效应晶体管制造技术
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文档序号:26767062
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本新型提出了一种横向双扩散碳化硅场效应晶体管,其包括:具有第一导电类型的碳化硅衬底;具有与该第一导电类型相反电性的第二导电类型的漂移区,设置于衬底上;具有第二导电类型的漏极区设置于漂移区表面上的一侧、第一导电类型第一阱区设置于漂移区表面的另...
该专利属于成都蓉矽半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都蓉矽半导体有限公司授权不得商用。
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