温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开的一种具有光滑边界的连续体结构密度演化拓扑优化方法，包括以下步骤：建立连续体结构的几何初始设计域；基于无惩罚函数的材料插值模型建立几何初始设计域的有限元模型；建立连续体结构拓扑优化问题数学模型；计算优化目标和约束条件对设计变量的灵...
该专利属于华南理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过华南理工大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。