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本发明提供曝光装置及物品制造方法。有利于兼顾投影光学系统的光学性能的校正性能与生产率。曝光装置具有：投影光学系统，将掩模的图案投影到基板；供给部，将折射率互不相同的多种气体以预先设定的混合率即设定混合比来混合而得的混合气体供给到投影光学系统...
该专利属于佳能株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能株式会社授权不得商用。

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