温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种（右）佐匹克隆光降解杂质的制备方法，属于化学合成技术领域。本发明所述6‑（5‑氯吡啶‑2‑基）‑6,7‑二氢‑5H‑吡咯并[3,4‑b]吡嗪‑5‑酮（化合物Ⅰ）的制备方法，为化合物Ⅱ或化合物Ⅲ与二异丁基氢化铝在一定的条件下反应...该专利属于迪嘉药业集团有限公司;迪沙药业集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过迪嘉药业集团有限公司;迪沙药业集团有限公司授权不得商用。