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本发明提供一种尺寸在10nm以下的电极间隙的制备方法和用途。所述电极的制备方法包括以下步骤：(1)将电子束抗蚀剂旋涂于衬底后烘烤，形成电子束抗蚀剂层；设计对顶结构的交叠型图形作为掩模图形；(2)按步骤(1)设计好的掩模图形利用电子束对旋涂电...
该专利属于国家纳米科学中心所有，仅供学习研究参考，未经过国家纳米科学中心授权不得商用。

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