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本发明公开了一种光刻装置，包括：对应分设于测量工位和曝光工位下方的第一工件台和第二工件台，所述第一工件台和所述第二工件台在完成针对各自放置的晶圆的操作后，通过作相对水平旋转，实现在所述测量工位和所述曝光工位之间的位置交换。本发明采用双工件台...该专利属于上海集成电路研发中心有限公司;上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司;上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司授权不得商用。