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本发明提供一种信息学计算光刻方法，首先根据信息理论建立计算光刻的信道模型，然后求解信息理论下最优掩模分布、最优光刻系统参数和工艺参数，最后采用信息理论提高计算光刻算法的收敛精度；由此可见，本发明实质为用信道模型来刻画光刻系统，将光刻成像过程...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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