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本实用新型公开了一种具有断电保护装置的光刻设备，包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构，以及用于在所述光刻机构超出预设运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。通...该专利属于苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学授权不得商用。