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本发明提供一种制造氧化硅薄膜的方法,因而能以高沉积速率连续形成具有一致光学常数如折射率、吸收系数等的薄膜。该方法包括:使用包含碳化硅和硅的溅射靶,其C与Si的原子数比为0.5-0.95,在含氧化气体的气氛中,用频率为1-1,000kHz交流...该专利属于旭硝子株式会社;旭硝子陶瓷株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过旭硝子株式会社;旭硝子陶瓷株式会社授权不得商用。
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本发明提供一种制造氧化硅薄膜的方法,因而能以高沉积速率连续形成具有一致光学常数如折射率、吸收系数等的薄膜。该方法包括:使用包含碳化硅和硅的溅射靶,其C与Si的原子数比为0.5-0.95,在含氧化气体的气氛中,用频率为1-1,000kHz交流...