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本实用新型涉及真空镀膜技术领域。本实用新型公开了一种真空溅射镀膜装置，包括一真空腔体以及间隔设置在该真空腔体内的A靶和B靶，A靶和B靶分别连接第一电源，B靶的等离子体的方向朝向A靶的表面，A靶的等离子体的方向朝向基板，用于将A靶和B靶的材料...
该专利属于四川猛犸半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川猛犸半导体科技有限公司授权不得商用。

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