温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供一种集成电路器件及其制备方法，涉及半导体技术领域，通过简单的工艺便可形成对相邻两个晶体管漏电流通路抑制的隔离段。该集成电路器件，包括：衬底以及凸出于所述衬底上的鳍片，所述集成电路器件还包括两个相邻的晶体管，所述两个相邻的晶体管将所...
该专利属于华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。