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本发明公开了一种格点阵列复合电极电阻存储器薄膜制备方法，将具有纳米格点阵列结构的氧化铟掺锡层插入氧化锆薄膜与电极之间。该格点阵列复合电极电阻存储器薄膜制备方法，用以有效地提高氧空位浓度，进而有效地提高电阻存储器的阻变性能，解决阻变器件参数的...
该专利属于西安理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安理工大学授权不得商用。

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