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本发明公开了一种阵列基板及其制作方法，包括以下步骤：在玻璃基板上形成IGZO薄膜晶体管；在所述IGZO薄膜晶体管上形成钝化层；所述钝化层使用了化学修饰进行疏水化处理，在所述钝化层的内部和表面形成疏水有机基团，所述疏水有机基团起到化学性阻挡水...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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