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本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。用于处理基板的装置包括：壳体，所述壳体具有在所述壳体内部的处理空间；板，所述板支承所述壳体内部的所述基板；加热构件，所述加热构件设置在所述板的内部以加热所述基板，并且包括多个加热区；温度测量...
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