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本发明涉及一种用于处理基板的装置，其包括：具有内部空间的热处理腔室；壳体，其设置在所述内部空间中，所述壳体在其中具有处理空间；气体供应管线，其将疏水性气体供应至所述处理空间中，以疏水化所述基板；和分解单元，其分解从所述处理空间泄漏至所述内部...
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