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一种用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备，其中，用于真空处理设备的内衬装置包括：环形内衬，所述环形内衬包括相互连接的侧壁保护环和承载环，所述承载环的外径大于侧壁保护环的外径，所述环形内衬围成一个处理空间；位于所述承载环内的气体通道，所述...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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