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本发明涉及生产光波导的方法，其包括在基材表面上形成下覆层；在该下覆层上形成光敏树脂组合物层；用紫外线通过具有给定图案的光掩膜辐照该光敏树脂组合物层的表面以进行曝光；在曝光之后，通过用显影液溶解该光敏树脂组合物层的未曝光区域而除去该层的未曝光...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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