生产光波导的方法技术

技术编号:2667339 阅读:135 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及生产光波导的方法,其包括在基材表面上形成下覆层;在该下覆层上形成光敏树脂组合物层;用紫外线通过具有给定图案的光掩膜辐照该光敏树脂组合物层的表面以进行曝光;在曝光之后,通过用显影液溶解该光敏树脂组合物层的未曝光区域而除去该层的未曝光区域,从而形成芯层;以及在该芯层上形成上覆层,其中所述的显影液是浓度为10-99重量%的γ-丁内酯水溶液。根据该方法,可以得到其中芯层本身以及所述芯层与所述下覆层之间的界面均不裂缝且具有小的光损失的光波导。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生产广泛用于光通信、光信息处理和其他一般光学领域中的光波导的方法。
技术介绍
光波导可用于光波导装置、集成光路和光缆板中且广泛用于光通信、光信息处理和其他一般光学领域中。近年来,使用光敏树脂如可紫外固化树脂生产这种光波导的技术正逐渐被应用。其实例包括如下方法,其包括在基材上形成下部覆层(下覆层),之后在该覆层上形成光敏树脂层,用光辐照该树脂层使其曝光,随后用显影液使该树脂层显影以除去未曝光区域从而形成具有给定图案的芯层,然后在该芯层上形成上部覆层(上覆层),从而生产出光波导。在生产光波导的这些步骤中,用于使光敏树脂层显影并除去该层的未曝光区域的显影液例如为丙酮(参见专利文献1)。专利文献1JP-A-2000-356720
技术实现思路
然而,在芯层形成中使用丙酮作为显影液的问题在于由于丙酮的作用,所述芯层本身或所述芯层与所述下部覆层(下覆层)之间的界面产生裂缝,从而损害了光波导的功能。在如此情况下实现了本专利技术。本专利技术的目的是提供,该方法能够获得其中芯层本身以及所述芯层与所述下覆层之间的界面均不裂缝且具有小的光损失的光波导。附图说明图1是说明本专利技术的光波导生产本文档来自技高网...

【技术保护点】
生产光波导的方法,其包括:在基材表面上形成下覆层;在所述下覆层上形成光敏树脂组合物层;用紫外线通过具有给定图案的光掩膜辐照所述光敏树脂组合物层的表面以进行曝光;在曝光之后,通过用显影液溶解所述光敏树脂组合物层 的未曝光区域而除去该层的未曝光区域,从而形成芯层;以及在所述芯层上形成上覆层,其中所述的显影液是浓度为10-99重量%的γ-丁内酯水溶液。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:清水裕介
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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