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一种基于III-V族窄禁带半导体的磁随机存储器制造技术
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下载一种基于III-V族窄禁带半导体的磁随机存储器的技术资料
文档序号:26652457
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本发明涉及一种基于III‑V族窄禁带半导体的磁随机存储器,其特征在于,由下至上依次包括衬底晶圆、介电层、自旋轨道力矩作用层及MTJ结构层,介电层采用碲化镉CdTe或者碲化锌ZnTe材料;自旋轨道力矩作用层采用高迁移率的III‑V族窄禁带半导...
该专利属于上海科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过上海科技大学授权不得商用。
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