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本发明提出一种外延片测试方法。所述外延片测试方法为,形成贯通至N层的缺口,测试电信号连接于P层并通过所述缺口连接于N层形成测试回路。外延片测试选取的多个测试点,采用所述技术方案能够保证选取的测试点靠近相应的缺口和P层电接触点,从而增加对测试...该专利属于矽电半导体设备(深圳)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过矽电半导体设备(深圳)股份有限公司授权不得商用。
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本发明提出一种外延片测试方法。所述外延片测试方法为,形成贯通至N层的缺口,测试电信号连接于P层并通过所述缺口连接于N层形成测试回路。外延片测试选取的多个测试点,采用所述技术方案能够保证选取的测试点靠近相应的缺口和P层电接触点,从而增加对测试...