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本发明属于电解铜箔表面处理技术领域，具体涉及一种唑类化合物基铜箔防氧化添加剂及其制备方法。本发明所提供的唑类化合物基铜箔防氧化添加剂包括：唑类化合物、成膜助剂、表面活性剂、还原剂和水，其中，所述唑类化合物的浓度为0.1～10g/L，所述成膜...
该专利属于湖北工程学院所有，仅供学习研究参考，未经过湖北工程学院授权不得商用。

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