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溅镀靶材及调整溅镀靶材周围磁力线分布的方法技术
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文档序号:26647047
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一种溅镀靶材及调整溅镀靶材周围磁力线分布的方法,所述溅镀靶材包含靶坯、背板单元、数个磁性件及数个固定件。所述背板单元包括与所述靶坯间隔设置的背板及接合层,所述背板具有朝向所述靶坯的底面的第一板面及反向于所述第一板面的第二板面。所述接合层设置...
该专利属于优贝克科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过优贝克科技股份有限公司授权不得商用。
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