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本发明提供了一种具有自调节磁场结构的磁控溅射靶，包括：靶体、磁场结构、靶材和水冷结构，靶体与靶材紧固连接，靶材与水冷结构紧固连接；磁场结构以磁控溅射靶轴心线作轴对称设置于靶材的下方；磁场结构包括电磁线圈，通过改变电磁线圈的电流值，能够改变磁...
该专利属于上海卫星装备研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海卫星装备研究所授权不得商用。

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