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本发明提供了一种ＨｆＯＮ／ＢＰ红外光学增透保护膜及其制备工艺。该膜系可用作３～５μｍ、８～１２μｍ波段红外光学窗口的增透保护膜，其结构为ＢＰ膜为内层膜，沉积于光学窗口表面，ＨｆＯＮ膜为外层膜，沉积于ＢＰ膜上。ＢＰ膜的沉积采用射频等离子体增强...该专利属于北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司授权不得商用。