红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜及其制备方法技术

技术编号:2664366 阅读:252 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种HfON/BP红外光学增透保护膜及其制备工艺。该膜系可用作3~5μm、8~12μm波段红外光学窗口的增透保护膜,其结构为BP膜为内层膜,沉积于光学窗口表面,HfON膜为外层膜,沉积于BP膜上。BP膜的沉积采用射频等离子体增强CVD技术,HfON膜的沉积采用反应磁控溅射沉积工艺。在光学窗口表面沉积HfON/BP双层膜后,对窗口有增透作用,并可显著提高其表面硬度、改善其耐磨性和防腐蚀性,提高其抗雨蚀、砂蚀及盐雾腐蚀的能力,保证其在恶劣工作环境下正常工作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于薄膜
,涉及一种红外光学窗口用HfON/BP增 透保护膜的构成及其制备方法。
技术介绍
红外光学窗口是红外系统中不可缺少的部件,其功能是保证系统 在使用环境中能够正常稳定的工作。在某些应用领域,如高马赫数飞 机用红外窗口,由于飞行速度高,因此环境中的雨滴、砂粒等颗粒会 对窗口表面产生比较大的沖击,但受材料固有性质的限制,某些窗口 材料本身无法满足上述使用要求,其表面需要涂覆保护膜以提高其抗 雨蚀、砂蚀的能力。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种红外光学窗口用HfON/BP增透保护 膜及其制备方法,在光学窗口表面沉积该膜系后,对窗口有增透作用, 并可显著提高其表面硬度、改善其耐磨性和防腐蚀性,提高其抗雨蚀、 砂蚀及盐雾腐蚀的能力,保证其在恶劣工作环境下正常工作。本专利技术的目的是这样实现的红外光学窗口用HfON /BP增透保护膜,包括基片,其特征是在 基片表面顺次沉积有BP膜和HfON膜。红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜,所述的保护膜以4)im为 中心波长,应用于3 5jim波段,其结构为在窗口基片表面顺次沉 积BP膜和HfON膜,BP膜的折射率约为3,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜,包括基片,其特征是在基片表面顺次沉积有BP膜和HfON膜。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:张树玉黎建明苏小平杨海郝鹏王宏斌余怀之刘伟
申请(专利权)人:北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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