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本发明公开了一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,包括:本发明的光谱阶跃式集成滤光片通过改变间隔层中微区光学厚度的办法,采用三腔结构,结合真空镀膜技术和半导体离子束刻蚀工艺,实现多通道带通滤光片于同一基片的集成。该集成滤光片能广泛用于航空航天...该专利属于中国科学院上海技术物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海技术物理研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,包括:本发明的光谱阶跃式集成滤光片通过改变间隔层中微区光学厚度的办法,采用三腔结构,结合真空镀膜技术和半导体离子束刻蚀工艺,实现多通道带通滤光片于同一基片的集成。该集成滤光片能广泛用于航空航天...