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本发明公开一种阴阳文互补光强掩膜版双光束投影光刻装置以及方法，属于投影光刻领域，投影光刻装置包括两种形式，一种为分体式，一种为合体式，分体式两束光分别进入两个物镜，合体式两束光共用一个物镜。本装备使用两束相同或不同波长的光，一束为制造光，另...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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