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公开了一种相移掩模的制备方法，其包括，提供第一厚度的透明基板，蚀刻透明基板形成第一厚度的第一基板表面和第二厚度的第二基板表面，第一厚度和第二厚度之间的差值使得照射第一基板表面的第一光束和照射第二基板表面的第二光束具有预定相位差；在氮气气氛下...
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