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公开了一种用于Ｘ射线照相的多晶陶瓷闪烁体，为减少上述闪烁体受Ｘ辐射时的辐射损伤，对其进行受控氧化退火处理，经如此处理的特殊陶瓷材料由具有立方晶系结构的含紧密烧结稀土掺杂氧化钆的金属氧化物组成，所述陶瓷成分包括：约５～５０克分子百分比的Ｇｄ－...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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