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本实用新型涉及地下连续墙领域，具体涉及了一种预制地下连续墙结构，具有呈正梯形的第一墙体和倒梯形的第二墙体，第一墙体的两侧均设有贯通于其顶面和底面的拼接凹槽，第二墙体的两侧均设有延伸至其顶面和底面的拼接凸块，拼接凸块嵌设于拼接凹槽内，且拼接凸...
该专利属于广州地铁设计研究院股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州地铁设计研究院股份有限公司授权不得商用。

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