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阵列基板及其制备方法技术
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文档序号:26509082
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本发明提供一种阵列基板及其制备方法,该阵列基板包括同层设置的第一电极和第二电极、位于第一电极和第二电极的上方的第一介质层、位于第一介质层的上方的第一金属层、位于第一金属层上方的第二介质层以及位于第二介质层上方的第二金属层,其中,第二介质层延...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。
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