下载存储器及其形成方法、半导体器件的技术资料

文档序号:26509042

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本发明提供了一种存储器及其形成方法、半导体器件。利用不同绝缘材料的第一隔离结构和第二隔离结构界定出多个单元器件有源区,有利于形成具有不同介电常数的隔离区,从而可利用隔离区中隔离结构提高对穿过的字线的隔离性能,改善字线的电性漂移的问题。...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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