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本发明公开了一种单晶炉半导体石墨坩埚提升装置，包括底座，所述底座顶部一侧的中间位置处设置有坩埚座，所述坩埚座内底部设置有坩埚，所述底座顶部远离坩埚座一侧的中间位置处设置有支撑柱，所述支撑柱的顶部设置有电机，所述电机的输出端设置有转轴，所述转...
该专利属于大同新成新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大同新成新材料股份有限公司授权不得商用。

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