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本发明公开了一种钝化接触电池的制备方法，包括如下步骤：1）选取硅片；2）制绒；3）制正面发射极；4）去除表面氧化物；5）制超薄氧化层；6）局部沉积重掺杂非晶硅；7）非晶硅退火；8）背面刻蚀和抛光；9）制背面掺杂层；10）去除表面氧化物；11...
该专利属于常州时创能源股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州时创能源股份有限公司授权不得商用。

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