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本发明提供一种半导体设备及提高静电吸盘吸附晶圆能力的方法，半导体设备包括：静电吸盘，用于吸附晶圆；光源，用于将发射的光线照射于吸附在静电吸盘上的晶圆上，以增大晶圆内载流子的浓度，从而增大静电吸盘对所述晶圆的吸附力。本发明的半导体设备通过设置...
该专利属于芯恩(青岛)集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩(青岛)集成电路有限公司授权不得商用。

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